去離子水設(shè)備的工作原理以及工藝流程
文章作者: 宏森環(huán)保
顧名思義，去離子水設(shè)備主要是將水中的陰陽離子，通過一定的技術(shù)手段給剔除，從而使得原水變成適合工業(yè)生產(chǎn)的純水。去離子水設(shè)備一般是采用先進(jìn)的EDI處理技術(shù)來制取，凈化率可高達(dá)90%以上。
眾所周知，自然中的水里一般含有鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物，這些化合物都是由陰陽離子組成。原水在通過反滲透膜的時候，反滲透膜會將超過90%的陰陽離子給攔截，RO純水(EDI給水)電阻率的一般范圍是0.05-1.0MΩ·cm，即電導(dǎo)率的范圍為20-1μS/cm。根據(jù)應(yīng)用的情況，去離子水電阻率的范圍一般為5-18MΩ·cm。另外原水中也可能包括其它微量元素、溶解的氣體(例如CO2)和一些弱電解質(zhì)(例如硼，二氧化硅)，因此EDI去離子水設(shè)備的作用就是通過除去電解質(zhì)(包括弱電介質(zhì))的過程，將水的電阻率從0.05-1.0MΩ·cm提高到5-18MΩ·cm。
去離子水設(shè)備工藝流程
一般情況下，去離子水設(shè)備的工藝流程主要分為3種，分別如下。
1、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象
2、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象
3、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象
隨著工業(yè)的進(jìn)步，純水設(shè)備的應(yīng)用也將越來越廣泛，目前，去離子水設(shè)備已經(jīng)廣泛應(yīng)用于食品、生物、制藥和電鍍等行業(yè)中。
以上就是關(guān)于去離子水設(shè)備的原理和工藝流程介紹，有不明白的歡迎前來咨詢宏森環(huán)保的小編，我們將竭誠為您服務(wù)。
